Полупроводниковые и оптические пластины и подложки в настоящее время нашли широкое применение как в промышленности, так и в научно-исследовательской деятельности. Кремниевые пластины в настоящее время являются неотъемлемой частью технологического сектора. Пользователи требуют большое количество различных кремниевых пластин с точным соответствием заданным спецификациям.
В 2019 году ООО «Криотрейд Инжинирнг» открывает новое направление по поставкам пластин, подложек и оптических элементов от европейских и азиатских производителей. Особо стоит выделить такую компанию как NOVA Electronic Materials, LLC - это сертифицированный американский агрегатор кремниевых подложек. Она занимается продажей излишков производства и субстратов с отклонениями от спецификаций от многих мировых производителей, что позволяет предлагать широкий ассортимент высококачественной продукции по разумным ценам. NOVA работает в этой сфере уже 30 лет и выполняет поставки как субстратов размером от 1 до 12 дюймов, так и различных пленок (термоокислов, нитрида кремния, металлических и т.п.).
Благодаря нашим партнерам предлагаемый ассортимент товаров весьма широк и позволяет нам выполнять поставку субстратов практически из любых возможных материалов. Сроки поставки составляют от 2-3 недель за подложки китайского производства до 3-4 месяцев за европейские, изготавливаемые под заказ.
Ниже представлен предлагаемый ассортимент продукции

Подложки из различных материалов

Компания «Криотрейд Инжиниринг» готова выполнить поставки субстратов и подложек, изготовленных из следующих материалов:
- монокристаллический кремний (Si), выращенный методом Чохральского (CZ) или с помощью зонной плавки (FZ);
- монокристаллический кремний (Si) с тонкой пленкой оксида (SiO2, от 15 до 300 нм и более);
- монокристаллический германий (Ge);
- Al2O3 оксид алюминия (сапфир);
- GaAs арсенид галлия; Подложки из шпинели (MgAl2O4)
- GaN нитрид галлия;
- GaSb антимонид галлия;
- GGG гадолиний-галлиевый гранат для инфракрасных оптических изоляторов (Gd3Ga5O12);
- InP фосфит индия;
- InAs арсенид индия;
- KBr бромид калия;
- KCl хлорид калия;
- KTaO3 танталат калия;
- LaAlO3 алюминат лантана;
- LiAlO2 алюминат лития;
- LSAT ((La0.3Sr0.7)(Al0.65Ta0.35)O3);
- MgAl2O4 шпинель;
- MgO оксид магния;
- NaCl хлорид натрия;
- Nb:SrTiO3, Fe:SrTiO3, Nd:SrTiO3 - титанат стронция, легированный ниобием, железом или ниодимом;
- SiC карбид кремния;
- SrTiO3 титанат стронция;
- SrLaAlO4 лантанат-алюминат стронция;
- TGG тербий-галлиевый гранат (Tb3Ga5O12);
- TiO2 оксид титана;
- YAlO3 алюминат иттрия;
- YSZ иттрий-стабилизированный диоксид циркония;
- ZnO оксид цинка.

Возможна металлизация и нанесение тонких пленок на любые подложки, в т.ч. тонких пленок из нитрида кремния (SiN2) толщиной от 100 до 500 нм на субстрат из любого материала.

Сцинтилляционные кристаллы и продукты на их базе

Сцинтилляционные кристаллы из следующих материалов:
- BaF2 фторид бария;
- BGO германат висмута (Bi4Ge3O12);
- CdWO4 вольфрамат кадмия;
- Ce:GAGG активированный церием GAGG (Ce:Gd3Al2Ga3O12);
- Ce:LaBr3 бромид лантана, активированный церием;
- Ce:LYSO ортосиликат лютеция, активированный церием;
- Ce:LuAG, Pr:LuAG - алюминиевый гранат, активированный церием или празеодимом;
- Ce:LuAP ортоалюминат лютеция, активированный церием;
- Ce:YAG алюминий-иттриевый гранат, активированный церием;
- Ce:YAP алюминат перовскита иттрия, активированного церием;
- Ce:YSO cиликат иттрия, активированный церием;
- Eu:CaF2 фторид кальция, активированный европием;
- Tl:CsI, Na:CsI - йодид цезия, активированный таллием или натрием;
- Tl:NaI йодид натрия, активированный таллием.

Капсульные сцинтилляторы в различных исполнениях под задачи пользователя:

- Ce:LaBr бромид лантана, активированный церием;
- Tl:NaI йодид натрия, активированный таллием.

Массивы сцинтилляторов:

- BGO германат висмута (Bi4Ge3O12);
- CdWO4 вольфрамат кадмия;
- Ce:GAGG активированный церием GAGG (Ce:Gd3Al2Ga3O12);
- Ce:LYSO ортосиликат лютеция, активированный церием;
- Tl:CsI йодид цезия, активированный таллием.

Сцинтилляционные детекторы из йодида натрия, активированного таллием (Tl:NaI) в сборе: 2x2”, 3x3”, 5x5”, 16x16”.
Возможно изготовление под размеры пользователя

Кристаллы для лазеров

Возможно изготовление кристаллов для лазеров из следующих материалов:
- Cr:YAG алюмо-иттриевый гранат, легированный хромом;
- Er:YAG алюмо-иттриевый гранат, легированный эрбием;
- Nd:Ce:YAG алюмо-иттриевый гранат, легированный неодимом и церием;
- Nd:YAG алюмо-иттриевый гранат, легированный неодимом;
- Nd:YVO4 иттриевый ванадат, легированный неодимом;
- Ti:Sapphire титан-сапфир;
- Yb:YAG алюмо-иттриевый гранат, легированный иттербием.

Возможно изготовление композитных кристаллов – из легированного кристалла для лазера с одним или двумя нелегированными материалами.

Оптические продукты
- кремниевые монокристаллы для источников нейтронов
- ATR (НПВО) кристаллы для ИК-Фурье спектроскопии или нейтронных экспериментов
- кремниевые и германиевые кристаллы для рентгеновской оптики
- кремниевые держатели образов (zero diffraction plate) для рентгеновского рассеяния (XRD)
- мишени для распыления монокристаллического кремния
- оптические кремниевые окна - пористый кремний
-изделия из нитрида алюминия (AIN) – перспективного материала для широко спектра применений
- пластины из ниобата лития (LiNbO3 (LN))
- пластины из танталата лития (LiTaO3 (LT))
- пластины из ниобата лития, легированного оксидом магния (MgO:LiNbO3, Mg:LN)

Окна прозрачности

Возможна поставка окон прозрачности из следующих материалов:
- Al2O3 оксид алюминия (сапфир);
- BaF2 фторид бария;
- CaF2 фторид кальция;
- Ge германий ;
- KRS-5 бромид-йодид таллия (TIBr);
- LiF фторид лития;
- MgF2 фторид магния;
- ZnSe селенид цинка.